在真空鍍膜、半導體蝕刻、真空熱處理等需要真空環(huán)境的工業(yè)制程中，溫度控制面臨特殊挑戰(zhàn)，而模溫機成為保障工藝穩(wěn)定的核心設備。蘇州新久陽機械針對真空環(huán)境研發(fā)的專用模溫機，以獨特的技術設計突破溫控難題。
在真空鍍膜工藝里，基板溫度直接影響膜層附著力與均勻性。新久陽機械的真空鍍膜專用模溫機采用非接觸式加熱技術，通過紅外輻射對基板進行加熱，避免因傳統(tǒng)接觸式加熱引入雜質影響真空環(huán)境。設備控溫精度可達 ±0.2℃，在光學鏡片真空鍍膜時，將基板溫度穩(wěn)定維持在 80 - 120℃，確保鍍膜材料均勻沉積，膜層的透光率和耐磨性顯著提升。某光學企業(yè)使用該模溫機后，鏡片鍍膜的良品率從 82% 提升至 95% 。
在半導體蝕刻工藝中，真空腔體內的溫度變化會影響蝕刻速率與精度。新久陽機械的半導體蝕刻專用模溫機，配備真空密封循環(huán)系統(tǒng)，防止傳熱介質泄漏破壞真空環(huán)境。設備支持多段溫度曲線編程，可根據(jù)蝕刻工藝需求，精準控制蝕刻液溫度在 15 - 30℃區(qū)間波動，使蝕刻精度達到 ±5nm，滿足先進半導體制造工藝要求。
